Vacuümsputtersysteem Het High Vacuum Sputtering System is een machine die metalen en diëlektrische dunne films aanbrengt op substraten tot 300 millimeter. Het systeem maakt gebruik van magnetronsputterbronnen die worden aangedreven door radiofrequentie, gelijkstroom of gepulseerde gelijkstroom, en werkt in enkelvoudige modus of in co-depositiemodus. Een modulaire structuur maakt eenvoudige installatie, transport en onderhoud mogelijk. De behuizing is gemaakt van koudgewalst staal met plaatvormgeving en spuitafwerking, een binnenframe van aluminium en een doorschijnende grijze acrylkap. Het bedieningsscherm is ontworpen volgens ergonomische principes.
Naam van het project : Ultra High Vacuum Sputtering System, Naam van de ontwerper : Yong Zhang, Naam van de cliënt : Huaiyin Institute of Technology & Liaoning Petrochemical University.
Dit geweldige ontwerp heeft een bronzen ontwerpprijs gewonnen in de ontwerpwedstrijd voor de fabricage en verwerking van machines. U moet zeker de met bronzen bekroonde ontwerpersportfolio zien om vele andere nieuwe, innovatieve, originele en creatieve ontwerpen voor fabricage en verwerking van machines te ontdekken.
